DOE Multi-line Laser
DOE通常采用微纳刻蚀工艺构成二维分布的衍射单元,每个衍射单元可 以有特定的形貌、折射率等,对激光波前位相分布进行精细调控。激光 经过每个衍射单元后发生衍射,并在一定距离(通常为无穷远或透镜焦 平面)处产生干涉,形成特定的光强分布。 UPOLabs可根据客户的要 求定制DOE镜片,选取优质的DOE镜片。拥有多线系列例如3线、5线、 7线、11线、101线和点阵等种不同的图案产品。
Wavelength:
All 405nm450nm520nm650nm850nm940nm
Work Distance:
All 50mm100mm200mm250mm300mm400mm500mm600mm700mm800mm900mm1000mm1300mm1500mm1800mm2000mm3000mm4000mm5000mm
price:
$
——
$
sort:
default
price
time
LETO-BL11-48x40-600
450±5nm
400-800mm

/

<700um(@400mm) 

<220um(@600mm) 

<1100um(@800mm)

9.4°-40°
LETO-BL9-60x8-1000
637±5nm
700-1300mm

/

<800um(@700mm) 

<550um(@1000mm) 

<1250um(@1300mm)

9.4°-40°
LETO-BL7-22.5x55-450
450±5nm
45-55mm

/

≤100um(@45mm) 

≤45um(@50mm) 

113um(@55mm)

9.4°-40°

Model

Wavelength

Work Distance

Line Width(1/e^2)

Depth of Field

Linewidth Angle (FA)

/